Nombre del producto : Poli(3,4-etilendioxitiofeno)

Abreviatura en inglés : P EDOT

CAS : 126213-51-2

Fórmula molecular : C ₆ H ₆ O ₂ S

Número de artículo : J0230

Fórmula estructural :

Introducción del producto

PEDOT es un polímero de EDOT. PEDOT tiene las características de estructura molecular simple, pequeña brecha de energía y alta conductividad, y se usa ampliamente en la investigación de materiales orgánicos de células solares de película delgada, materiales OLED, materiales electrocrómicos, materiales de electrodos transparentes y otros campos.

Aplicación de PEDOT

Recientemente, las resinas o fibras sintéticas se han utilizado cada vez más en los campos de los semiconductores, la electrónica y los dispositivos de visualización, lo que genera problemas electrostáticos molestos y no resueltos. En la actualidad, la capa adhesiva se ha hecho antiestática para solucionar el problema electrostático generado al separar la película desprendible de la capa adhesiva. Si la capa adhesiva se hace antiestática, es posible que no presente completamente un rendimiento antiestático debido a la mala compatibilidad entre el agente antiestático y el adhesivo. Por lo tanto, además de las propiedades antiestáticas de la capa adhesiva, la capa de liberación se ha hecho antiestática. Las técnicas antiestáticas convencionales incluyen agregar compuestos aniónicos internamente, recubrir con partículas inorgánicas conductoras, recubrir con compuestos aniónicos o catiónicos de bajo peso molecular y recubrir con polímeros conductores. Sin embargo, las tecnologías existentes no son rentables y tienen limitaciones a la hora de obtener un rendimiento antiestático. Para abordar este problema, la patente CN101421104B proporciona una película de revestimiento antiadherente de silicona antiestática. En la tecnología patentada, los polianiones son polímeros ácidos, así como ácidos carboxílicos poliméricos o ácidos sulfónicos poliméricos, ácidos polietilensulfónicos, etc. Ejemplos de ácidos policarboxílicos incluyen ácido poliacrílico, ácido polimetacrílico, ácido polimaleico, etc. Ejemplos de ácido sulfónico polimérico son poliestireno sulfónico ácido, etc. Mientras tanto, en la presente invención, se utiliza una loción polimérica que comprende 0,5 % en peso de  poli(3,4-etilendioxitiofeno)  y 0,8 %  en peso de ácido poliestireno sulfónico.  

La película antiadherente de silicona antiestática de la presente invención se produce mediante procesos de producción en línea o fuera de línea y se utiliza como película antiadherente para dispositivos semiconductores, electrónicos y de visualización. Debido a su alto nivel de rendimiento antiestático, puede reducir la contaminación del producto causada por la electricidad estática cuando se retira la película de la capa adhesiva.

Referencias

CN101421104B Película de revestimiento desprendible de silicona antiestática.